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溅射镀膜
用高能粒子轰击固体外面时能使固体外面的粒子得到能量并逸出外面,堆积在基片上。溅射征象于1870年开始用于镀膜技巧,1930年今后因为进步了堆积速率而渐渐用于工业生产。罕用的二极溅射装备如图3[
二极溅射示意图]。平日将欲堆积的资料制成板材--靶,牢固在阴极上。基片置于正对靶面的阳极上,距靶几厘米。体系抽至高真空后充入
10~1帕的气体(平日为气),在阴极和阳极间加几千伏电压,南北极间即发生辉光放电。

不影响产量的简化选择方案与PVD不同,ALD技术无需旋转基底材料。这意味着用更简单的方法就能达到更大的产量。Beneq P400A实现了高均匀度、批量生产和高沉积率的的优化组合。Beneq ALD工艺技术满足了在复杂3D结构表面均匀沉积薄膜的高保形性。这为任意形状的光学器件、球型透镜、光栅等应用提供了成熟可靠的镀膜方案。

光学镀膜(Optical coating)或薄膜镀膜(film coating)是对玻璃、镜子、电脑屏幕、光纤元件等产品进行金属镀膜的一种制造工艺。与无涂层产品不同,光学涂层使产品能够以不同的方式反射光线。涂层通常是通过使用由技术人员操作的机器来完成的,技术人员对机器过程进行编程或监督。一些机器执行自动化过程,不需要仔细监督。光学电镀光学电镀